| 000 | 01019nam a22002657a 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 003 | CO-BoLCI | ||
| 005 | 20190906062623.0 | ||
| 008 | 190402t xxu||||| |||| 00| 0 eng d | ||
| 040 | _aCO-BoLCI | ||
| 041 | _aspa | ||
| 084 |
_aT-MAQ _b082 |
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| 100 |
_95124 _aLeón Echeverria, Lia Muriel |
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| 110 |
_aLCI Fundación Tecnológica Bogotá (Colombia) _93433 |
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| 245 |
_aToska / _cLia Muriel León Echeverria |
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| 260 |
_aBogotá : _bLCI , _c2017. |
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| 300 |
_a82 p. : _bil. , fots. ; _c28 cm. _e+Cd-Rom |
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| 502 | _aMaquillaje Artístico. | ||
| 504 | _aIncluye bibliografía y Banco de imágenes. | ||
| 505 | _aContiene autorización y uso de derechos. | ||
| 520 | _aTrabajo inspirado en el movimiento artístico Low-Brow o surrealismo pop; se presentan artistas como Mark Ryden, Nicoletta Ceccoli, Ray Caesar entre otros. | ||
| 650 |
_93509 _aMaquillaje artístico |
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| 650 |
_95125 _aMaquillaje artístico _xSurrealismo |
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| 650 |
_95126 _aMaquillaje artístico _xMovimiento Low-Brow |
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| 942 |
_2ddc _cTES |
||
| 999 |
_c3965 _d3965 |
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